给 AI 生成的作品取水印欧洲杯下单平台(竞猜)，让 AIGC 图像可溯源，如故成为行业共鸣。
问题是，传统水印法子频频把图像当成一个举座科罚，全局镶嵌、水印索求一锅端，存在不少"短板"：
比如，图像局部区域被转换，就可能导致全局索求失败，也无法定位水印地点具体区域。
又比如，无法只保护某个区域，如东说念主脸、LOGO 等。
针对这个问题，面前，来自南洋理工大学和新加坡 A*STAR 前沿东说念主工智能讨论中心等机构的讨论东说念主员，提议了一种全新的局部鲁棒图像水印法子—— MaskMark。
该法子不仅在多个任务中全面超越 Meta 出品的 SOTA 模子 WAM，况兼磨真金不怕火本钱只须它的 1/15。
具体而言，MaskMark 相沿：
多水印镶嵌
可精确定位转换区域
纯真索求局部水印
自适合相沿 32/64/128 比特
中枢想路：让模子"看得见"水印在那里
讨论东说念主员引入了一种掩码机制，磨真金不怕火时告诉模子"水印藏在这里"，教它学会精确地镶嵌和索求。
他们给 MaskMark 联想了两个版块：
MaskMark-D（解码掩码）
水印全图镶嵌，但能定位水印位置，相沿局部索求。
即使部分图像被转换，也能见效索求水印。
合乎用于举座图像保护、版权声明和实验考证。
MaskMark-ED（编码 + 解码掩码）
水印只镶嵌图像的特定区域（比如东说念主脸或 LOGO）。
对小范围挫折更鲁棒，索求落幕更好。
合乎局部明锐实验保护、阴私感知场景等。
其中中枢期间经过，是磨真金不怕火和推理的双重优化。
MaskMark 的端到端磨真金不怕火经过主要包括四个阶段：
掩码生成（Mask Generation）：
从四种预界说类型（全掩码、矩形掩码、不规章掩码、分割掩码）中就地选拔或生成一个掩码 M。
水印镶嵌（Watermark Embedding）：
编码器将水印比特镶嵌原始图像（关于 MaskMark-ED 可选拔性地镶嵌掩码 M 来引导镶嵌位置），生成水印图像。此过程欺诈轻量级 CNN 科罚水印比特，并筹商 U-Net 结构及 JND 模块优化视觉落幕。
水印掩码操作（Watermark Masking）：
使用掩码 M 会通和，生成，即仅在掩码区域保留水印。随后对施加就地失真赢得，
并再次用 M 剪辑出仅含水印信号的区域。
水印索求（Watermark Extraction）：
解码器从中料到掩码，并从中索求水印比特。解码器包含专诚用于掩码料到的 U2-Net 和用于水印索求的 U-Net 及 CNN 模块。
MaskMark 推理时，解码器最初欺诈定位模块识别含水印区域，将非水印区域置零以减少滋扰，然后从保留区域规复水印，这关于小区域水印索求尤为弥留。
在多项不同的任务上均发扬出 SOTA 的性能
讨论东说念主员在多项不同任务上考证了 MaskMark 的性能。
最初，MaskMark 能齐全高索求精度。
在全局水印任务中，即使在高视觉保真度（PSNR > 39.5, SSIM > 0.98）下，MaskMark-D 和 MaskMark-ED 仍能保合手近乎 100% 的比特许确率，尤其在千般值度量和几何失真挫折下发扬优异，显贵优于现存基线模子。
在局部水印任务中，实验标明，当水印信号散播在图像的不同大小区域时，MaskMark 仍能保合手近乎 100% 的索求准确率，显贵优于其他全局法子，并越过现时开头进的局部水印模子 WAM。尤其在小面积镶嵌场景中，MaskMark-ED 展现出愈加出色的发扬。
其次，MaskMark 能齐全精确水印定位。
在不同水印区域比例和失真条目下，其定位性能（以 IoU 料到）均优于 EditGuard 和 WAM 等法子。MaskMark-ED 在小区域定位上更具上风。
MaskMark 还具备多水印镶嵌智商。
尽管并非为此专诚磨真金不怕火，MaskMark-ED 在单个图像中镶嵌多达 5 个不同水印时，依然保合手雄壮的索乞降定位性能，优于 WAM。
在高效性和延伸性方面，磨真金不怕火效用上，MaskMark 仅需在单个 A6000 GPU 上磨真金不怕火约 20 小时，筹算效用（TFLOPs 料到）比 WAM 朝上 15 倍。
在音书长度方面，MaskMark 可粗拙延伸至不同比特长度（如 32、64、128 位），并保合手较高性能，而 WAM 则受限于 32 位。
另外，MaskMark 还相沿快速微调 *。
通过浮浅治愈失真层或进行少许微调（如针对 VAE 自适合挫折，仅需 20k 磨真金不怕火步数），MaskMark 即可适合不同鲁棒性需乞降新兴要挟。
论文一语气：
https://arxiv.org/abs/2504.12739
代码一语气：
https://github.com/hurunyi/maskmark
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— 完 —
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